半导体/微电子除静电
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半导体/微电子除静电

在硅晶圆和芯片切割划片、硅片清洗、太阳能电池片清洗、液晶面板清洗、光掩膜清洗等高精度领域的工业生产制程中都会产生静电。为防止静电效应的危害,同时保持芯片、硅片、太阳能面板等产品的表面洁净,需要用含离子的水去除静电和杂质。目前行业内向超纯水中充入二氧化碳制备含离子清洗水是解决静电效应同时达到产品表面洁净的主流技术。

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案例描述

半导体/微电子除静电(除静电膜接触器解决)

      在硅晶圆和芯片切割划片、硅片清洗、太阳能电池片清洗、液晶面板清洗、光掩膜清洗等高精度领域的工业生产制程中都会产生静电。为防止静电效应的危害,同时保持芯片、硅片、太阳能面板等产品的表面洁净,需要用含离子的水去除静电和杂质。目前行业内向超纯水中充入二氧化碳制备含离子清洗水是解决静电效应同时达到产品表面洁净的主流技术。

  科纳诺自主开发了采用PTFE中空纤维膜为溶气介质的MBC-2509膜接触器组件,来实现超纯水的洁净CO2无污染注入,为制备含离子超纯水提供高效解决方案。CO2气体穿过PTFE中空纤维膜的膜壁均匀的溶解到膜丝外的超纯水中,用这种超疏水PTFE中空纤维膜将CO2气体和超纯水隔开。能有效通过溶气设备中的调节装置控制CO2的释放量及其在水中的溶解量,从而实现精确控制水的电阻率,产品水的电阻率可以很方便且精确地调整到0.1-2MΩ·cm范围内。

  MBC-2509膜接触器组件采用了具有强疏水性,强化学稳定性,高孔隙率,高机械强度,长使用寿命等特点的疏水膜丝。能有效避免膜丝在长时间运行后出现的亲水化导致的液体浸润、界面破坏等现象;保证膜接触器的使用寿命。除了膜材料本身,科纳诺还在接触器的结构工艺上做了优化,采用“两进两出”的结构设计和膜丝编织工艺,扩大接触器的有效气液接触面积,保证二氧化碳在超纯水中的快速、可控无气泡溶解,有效保持系统出水及产水电阻率的稳定,对超纯水无二次污染,气体利用率高,节省用气量且组件小巧,能适用于各种应用场景。

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