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半导体/微电子除静电
在硅晶圆和芯片切割划片、硅片清洗、太阳能电池片清洗、液晶面板清洗、光掩膜清洗等高精度领域的工业生产制程中都会产生静电。为防止静电效应的危害，同时保持芯片、硅片、太阳能面板等产品的表面洁净，需要用含离子的水去除静电和杂质。目前行业内向超纯水中充入二氧化碳制备含离子清洗水是解决静电效应同时达到产品表面洁净的主流技术。
